LPP FINFET
-
Dolphin Design宣布首款支持12纳米 FinFet技术的硅片成功流片
这款测试芯片是业界首款采用12纳米FinFet(FF)技术为音频IP提供完整解决方案的产品。该芯片完美结合了高性能、低功耗和优化的占板面积,为电池供电应用提供卓越的音质与功能。这款专用测试芯片通过加快
-
intel的FinFET芯片技术侵犯中科院专利:要赔多少钱?
虽然现在从芯片制造技术来看,intel已经落后于台积电、三星。而从市场营收来看,也落后于三星,但大家也无法否认,intel依然是全球最强大的芯片企业之一。特别是intel在2011年使用FinFET(鳍式场效应晶体管)技术后
-
中芯国际:FinFET工艺已量产 产能1.5万片
8月5日晚,中芯国际发表了2021年Q2财报,营收13.4亿美元,同比增长43.2%,环比增长21,8%,归母净利润为6.88亿美元,环比增长332.9%,同比增长398.5%。在财报电话会上,中芯国
-
Nerissa Draeger博士:全包围栅极结构将取代FinFET
作者:泛林Nerissa Draeger博士FinFET在22nm节点的首次商业化为晶体管——芯片“大脑”内的微型开关——制造带来了颠覆性变革。与此前的平面晶体管相比,与栅极三面接触的“鳍”所形成的通道更容易控制
-
FinFET寿终正寝!台积电2nm GAA工艺结束路径探索阶段
当前,最先进的芯片已经采用了5nm工艺(苹果A14),这在另一方面也意味着,晶圆代工厂商们需要更加马不停蹄地推进制程技术的迭代。来自Digitimes的最新报道称,台积电2nm GAA工艺研发进度提前,目前已经结束了路径探索阶段
-
后FinFET时代的技术演进
FinFET晶体管架构是当今半导体行业的主力军。但是,随着器件的持续微缩,短沟道效应迫使业界引入新的晶体管架构。在本文中,IMEC的3D混合微缩项目总监Julien Ryckaert勾勒出了向2nm及以下技术节点发展的演进之路。
-
Intel被控侵犯中科院微电子所FinFET专利 预计将赔偿2亿元
据国家知识产权局专利复审委员会消息,其审理了201110240931.5(“FinFET专利”)发明专利的无效申请。无效申请的请求人是Intel(中国)有限公司,而专利权人为中国科学院微电子研究所(下称“微电子所”)
-
中芯国际2019年Q4营收8.394亿美元:第一代FinFET 14nm顺利量产
中芯国际公告称,2019年第四季度营收8.394亿美元,同比增长6.6%;第四季度净利润8874万美元,同比增长234.6%。IT之家报道,中芯国际表示,2019年最终顺利完成全年目标。其中,中国区营收四季度占比65%,环比增长11%,同比增长21%
-
瞄准高端FinFET技术,中芯国际在今年能否交出满意答卷?
中芯国际公布 2019 年首季财报虽然获利缩水,但对于第二季的展望是相当乐观,估计营收将强劲反弹 17%~19 %,与行业内认为首季是谷底的基调一致。专攻高端 FinFET 技术的中芯南方晶圆厂完成建置,第一台 ASML 光刻机日前已经搬入厂内。
-
Bulk CMOS/FD-SOI/FinFET 22nm工艺大战在即,代工厂如何站队
各大晶圆厂积极寻求差异化,BulkCMOS、FD-SOI和FinFET随时待命,不过问题在于,在28nm之后,芯片制造商将走向何方?
-
FinFET凭什么应用于新一代ASIC矿机芯片?
中本聪打造比特币的时候,设计的是使用电脑(包括家用电脑)来挖矿,主要依靠CPU去计算。但是随着比特币等数字货币的价值越来越高,挖矿成为了一个产业,竞争越来越激烈,挖矿难度也不断提升,于是逐渐转移到硬件比拼上来。
-
三星宣布量产第2代14纳米LPP FINFET工艺芯片并用于Galaxy S7中
三星电子计划使用第二代14纳米FinFET制程技术量产更先进的处理器,并很快将被用于三星的高端智能手机Galaxy S7中。
-
台积电采用Cadence方案制作Finfet10纳米芯片
台积电(TSMC)依据Cadence提供的工具制定了10纳米芯片定制设计参照流程,他们正致力于首次将10纳米FinFet芯片推向商用。
最新活动更多 >
-
11月起立即报名>> 光电类专业2025年秋季空中双选会
-
即日-11.13立即报名>>> 【在线会议】多物理场仿真助跑新能源汽车
-
11月14日抢先报名>> OFweek 2024固态电池技术线上研讨会
-
11月28日立即报名>>> 2024工程师系列—工业电子技术在线会议
-
11月29日立即预约>> 【上海线下】设计,易如反掌—Creo 11发布巡展
-
即日-11.30免费预约申请>>> 燧石技术-红外热成像系列产品试用活动